产品简介

该高温CVD管式炉工作温度为300℃至1600℃，配备真空泵，气体混合装置。采用智能温度控制系统，出色的气体流量精度，易于操作，出色的隔热效果和温度均匀性。本系列CVD化学沉积系统主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与研发。

性能特点

智能温控
工艺稳定性强
结构合理
精准气路调控

多段程序控温，升温速率可调，满足各类材料热处理工艺。

温场均匀，气体输送稳定，沉积薄膜一致性佳，实验可复现性高。

不锈钢双层密封法兰，两端可调节法兰支撑结构，延长炉管使用寿命

多路气源独立控制，流量调节精度高，工艺重复性好。

技术参数

产品名称	高温CVD系统
产品型号	HL-TCVD1700-L
最高温度	≤1700℃
工作温度	≤1600℃
结构	碳钢外壳带冷却风扇双层氧化铝纤维板
炉管	刚玉管外径Φ50/60/80/100mm （尺寸可按客户需求定制）
密封	真空法兰
加热区长度	200~440mm （尺寸可按客户需求定制）
加热区数量	单温区/多温区，按需定制
温度传感器	B型热电偶
温度控制	可控硅自动控温，移相触发多段可编程PID智能控制过热和断偶保护，超温保护警报
加热速率	建议：≤10℃/min
控温精度	+/-1℃
加热元件	硅钼棒
流量计	浮子流量计/质子流量计，可选
真空系统	旋片泵/扩散泵/分子泵（可选配）
极限真空度	≤6.67* 10-3Pa（空炉，冷态，经净化）