1700℃刚玉管式炉(多温区)多温区高温管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、高温热解工...
1200℃滑轨式管式炉1200℃滑轨式管式炉,炉体可以沿滑轨移动。炉体提前预热到位,推到样品处快速升温,实验完成直接滑开,样品快速冷却。支持气氛和真空环...
RTP真空快速退火炉真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,如:薄膜沉积,不同材料快速退火、...
1200℃真空/气氛管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护...
(连续进出料)双温区立式流化床该流化床管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计,可应用于小型钢件的退火、回火热处理,以及立式CVD镀膜等。设备...
多通道管式炉多通道管式炉是一种新型管式炉,使用温度区间 1000-1700℃,可依据工艺温度选配合金管、石英管、刚玉管等多种炉管材质。多通道并行...
1700℃刚玉管式炉(多温区)多温区高温管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、高温热解工...
1200℃滑轨式管式炉1200℃滑轨式管式炉,炉体可以沿滑轨移动。炉体提前预热到位,推到样品处快速升温,实验完成直接滑开,样品快速冷却。支持气氛和真空环...
RTP真空快速退火炉真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,如:薄膜沉积,不同材料快速退火、...
1200℃真空/气氛管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护...
(连续进出料)双温区立式流化床该流化床管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计,可应用于小型钢件的退火、回火热处理,以及立式CVD镀膜等。设备...
多通道管式炉多通道管式炉是一种新型管式炉,使用温度区间 1000-1700℃,可依据工艺温度选配合金管、石英管、刚玉管等多种炉管材质。多通道并行...
高温真空钎焊炉本款高温型真空钎焊炉,是精密钎焊连接专用高温真空设备,最高使用温度可达 1300℃。工件在真空环境内完成钎焊,可抑制高温氧化,适配...
钼带真空炉 钼带真空炉本设备以高纯钼带作为发热元件,搭配多层钼隔热屏构成全金属热场,炉膛洁净无碳污染,在高真空或惰性保护气氛下完成各类...
石墨真空炉该高温真空炉主要应用于金属难熔化合物粉末冶金材料、碳和石墨制品,陶瓷材料等在真空状态下加热烧结,广泛应用于冶金、化工、石油...
石墨真空烧结炉该高温真空烧结炉主要应用于金属难熔化合物粉末冶金材料、碳和石墨制品,陶瓷材料等在真空状态下加热烧结,广泛应用于冶金、化工、...
外热式真空热处理炉该设备适用于粉末冶金、功能陶瓷、碳化硅、氧化铝等新材料的高温热成型,主要用于高速钢、模具钢、工具钢、合金钢、钛合金等材料...
3D打印金属材料真空回火炉3D 打印金属材料真空回火炉专为 3D 打印金属工件定制,配置密闭真空腔体与精密温控系统,在真空或惰性保护气氛环境下完成回火处理...
1200℃箱式气氛炉1200℃高温箱式气氛炉为密闭式气氛保护加热设备,长期使用温度 1100℃,炉膛采用高纯氧化铝纤维保温结构,气密性良好,可预抽真空并通...
1800℃高温气氛炉该系列产品专为高校、科研院所和工矿企业实验室开发陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料、特种材料、粉末冶...
工业气氛炉 工业箱式气氛炉为批量式密闭气氛热处理设备,适配工业小批次生产,炉膛采用节能保温结构,密封性能优良,可通入氮气、氩气等保护气体...
1200℃箱式电阻炉箱式电阻炉为电阻加热热处理设备,炉体结构稳固,依靠电阻元件辐射加热,支持多段程序控温。设备操作简单,温场稳定,可在空气气氛下完成...
1400℃箱式炉(硅碳棒加热炉)1400℃箱式炉(硅碳棒加热)属于间歇式高温热处理设备,以硅碳棒作为加热元件,搭载可编程温控系统,温场均匀可控。可在空气气氛下开展粉...
1700℃箱式炉(硅钼棒加热炉)1700℃硅钼棒箱式炉是一款高温试验设备,选用高性能硅钼棒为发热元件,可长期稳定在 1600℃空气气氛下工作。炉膛采用高纯耐高温纤...
工业型箱式炉工业箱式炉是面向量产场景的高温热处理装备,采用坚固炉体框架与大容量炉膛,搭载大功率加热组件与独立温控系统,可完成大装载量工件...
科研型升降/钟罩炉这款底部装料马弗炉采用紧凑型炉腔设计,带升降托盘,炉底可升降。该高温箱式升降炉是研究实验室中进行材料退火和烧结的理想设备。...
六面加热箱式炉六面加热马弗炉炉腔内的六个面都安装有加热元件,多温控温,所以温场均匀性较好。炉膛采用高纯度氧化铝纤维陶瓷绝缘材料,热效率高;炉...
1200℃等离子增强PECVD系统1200℃等离子增强 PECVD 系统(石英炉管)以高纯石英管作为反应腔体,搭配管式加热炉体、射频等离子源、高精度气路与真空单元。石英...
1700℃等离子增强PECVD系统1700℃等离子增强 PECVD 系统(刚玉炉管)采用高纯刚玉炉管作为反应腔体,搭配高温加热单元、射频等离子发生装置、真空系统与多路精...
旋转式PECVD系统该设备是一款定制的PECVD系统,增加了倾斜、旋转功能。该系统包含等离子射频电源,高温管式炉,供气系统和真空系统。适用于粉体材料...
1200℃化学气相沉积CVD(单/多温区)该CVD管式炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学,研...
1700℃高温CVD系统(单/多温区)主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与研发...
立式流化CVD系统(单/多温区)立式流化 CVD 采用立式流化床结构,依靠载气使粉体物料在反应腔内形成稳定流化状态,粉体颗粒悬浮翻滚,与反应气体充分接触。系统支...



1000℃中试型回转炉本款 1000℃中试型回转炉是衔接实验室小试与工业化量产的粉体热处理设备,最高使用温度 1000℃,炉管支持旋转、倾角可调,可配套气氛...















