真空/气氛管式炉
迷你型真空管式炉迷你型真空管式炉为小型实验室高温热处理设备，结构紧凑，占用空间小，支持真空、惰性气氛环境。适配小样品烧结、退火、灰化、材料制备等实验场景，操作简便，温控稳定，可搭配石英、刚玉等多种炉管，是高校与科研院所小样试验常用设备。
1200℃真空/气氛管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测定等场合。
1700℃真空/气氛管式炉1700℃真空 / 气氛管式炉是常用的高温管式热处理设备，最高工作温度可达 1700℃，核心加热元件多采用硅钼棒，炉管选用刚玉管（氧化铝陶瓷管），支持真空环境、惰性气氛、保护性气氛下的烧结、退火、淬火、脱胶、固相反应、材料合成等工艺。
三聚氰胺升华炉该套设备系专为使用升华法进行工业用三聚氰胺含量测定而研发的设备；亦可拆分后将各个部分单独使用，适用于实验室的各种真空、气氛、空气环境下的升华、焙烧、烧结、热处理、钎焊等实验。
大口径真空石英管式炉采用高纯透明石英大口径炉管，支持真空、惰性气氛热处理。配备真空密封法兰与 PID 程序温控，可完成退火、烧结、CVD、脱胶等工艺，适合大尺寸样品与小批量粉体处理。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
