产品简介

立式流化 CVD 采用立式流化床结构，依靠载气使粉体物料在反应腔内形成稳定流化状态，粉体颗粒悬浮翻滚，与反应气体充分接触。系统支持多路气源接入，精准调控气体流量与组分配比，可构建稳定的反应温场与流化环境。该设备专门面向粉体材料气相包覆、改性、薄膜沉积工艺，适用于高校、科研院所及企业研发平台，开展粉体表面涂层、功能化改性等实验研发与小批量试制。

性能特点

粉体流化充分
立式腔体结构
密闭反应环境
研发试制兼顾

气流驱动颗粒悬浮翻滚，气固接触充分，包覆均匀性好。

气流自下而上，流化状态稳定，不易出现粉体团聚、沉降。

腔体密封性良好，可在保护气氛、负压环境下完成沉积反应。

灵活可调的流化与温控参数，满足新材料开发和小批量制备。

产品展示

技术参数

立式流化床CVD
产品型号	HL-TCVD1200T
加热区长度	200~440mm（其他尺寸可按客户需求定制）
炉管尺寸	直径40~120mm（其他尺寸可按客户需求定制）
炉管材质	高纯石英管内置石英多孔板（订制）
工作温度	≦1100℃
最高温度	1200℃
测温元件	N型热电偶测温
温控系统	智能化多端PID微电脑可编程自动控制并有自动整定功能
控温精度	±1℃
温控保护	具有超温和断偶保护功能
升温速率	0-10℃/min
加热元件	电阻丝
炉膛材料	采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡
密封系统	真空法兰
流化区域	1.反应气体均匀地通过反应区 2.固体颗粒被通入的气体悬浮在加热区内 3.炉体设计为开启式，当实验结束后，可将炉体打开，拿出石英管，取出反应后的颗粒。注意：在通入气体悬浮起样品颗粒时，也许会因为气体流量过大会使颗粒穿过加热区，所以实验时要根据颗粒的大小尺寸来调节气体流量
壳体结构	双层壳体结构带风冷系统，开启式
炉体结构	立式结构
气路系统	浮子流量计/质量流量计，按需选择
真空系统	真空泵组可选，极限真空度≤6.67X10-3PA

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立式流化CVD系统（单/多温区）

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