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18137195607
产品简介
此款CVD气相沉积系统的工作温度为≤1100℃，配备真空泵，气体混合装置。采用了温度控制系统，高精度控温，出色的气体流量精度，易于操作，有非常好的隔热效果和温度均匀性。该CVD管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
性能特点
- 高纯氧化铝纤维炉膛
- 双层外壳结构 配备冷风系统
- PID智能温控系统
发热元件采用优良电阻丝，炉膛采用陶瓷纤维材料，保温性能好，抗拉强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显
双层钢制外壳，带双冷却风扇，炉壳温度始终保持在安全范围内，上开启打开炉门，操作方便
内置PID自动调节功能，具有过热和断开热电偶断开保护； 超温保护和报警
技术参数
| 设备名称 | CVD管式炉 |
| 设备型号 | HL-TCVD1200-S |
| 最高温度 | 1200 ℃ |
| 工作温度 | ≤1100℃ |
| 炉管尺寸 | 外径40~120mm（其他尺寸可按需求定制） |
| 炉管材质 | 石英 |
| 温区长度 | 200~440mm （其他尺寸可按需求定制） |
| 温区数量 | 单温区/多温区，按需定制 |
| 加热元件 | 电阻丝 |
| 加热速率 | 0-10℃/min |
| 温度控制 |
● 多个可编程段，用于控制加热速率、冷却速率和停留时间。 ● 内置PID自动调节功能，具有过热和热电偶损坏保护功能。 ● 超温保护和报警 |
| 热电偶 |
N型 |
| 温控精度 | ±1℃ |
| 炉膛结构 |
双层钢制外壳，带双冷却风扇 |
| 真空法兰 | 不锈钢密封水冷法兰 |
| 供气系统 | 浮子流量计/质量流量计（可选） 流量控制：触屏控制（选配） |
| 真空系统 | 旋片泵/扩散泵/分子泵（可选配） 极限真空度达到6.67X10-3Pa（冷却状态） |
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
