产品中心

匠者如炉 以恒温淬炼匠心!

每一台电炉的诞生,皆是对工业心脏的精细雕琢。

您的位置: 首页 > 产品中心 > CVD/PECVD系统 > CVD系统

多温区滑道式CVD系统

多温区滑道式CVD系统

型号:HL-TCVD1200-S

简介:这款双温区滑道CVD管式炉采用滑道设计,可以通过导轨左右滑动实现物料的快冷和快热;可同时连接多种气源,气体流量采用触屏质量流量控制器进行精确测量和控制。该高温CVD设备主要用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

产品简介

         多温区滑道 CVD 管式炉为气相沉积工艺定制开发,炉体配置滑道导轨结构,料架可沿导轨左右滑移,让工件快速进出温区,高效实现物料快热、快冷,缩短工艺周期,避免样品在降温阶段受到气氛持续影响。设备支持多路气源同步接入,搭载触屏式质量流量控制系统,可独立、精准调控各路气体流量,配比稳定可控。各温区独立控温,能够构建梯度温场,适配不同沉积反应需求。广泛应用于高校、科研院所及生产企业,用于薄膜制备、材料改性等各类气相沉积相关实验研发与小批量生产。ObT高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-河南鸿炉科技有限公司
ObT高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-河南鸿炉科技有限公司
 

性能特点

  • 滑道快速移料
  • 温场均匀
  • 多路气氛可控
  • 工艺稳定性强

导轨滑移结构,样品快速进出高温区,实现快热快冷,工艺切换灵活。

炉膛内部设计有对流栅格,炉体内部气流容易形成上下对流循环,有利于炉温平衡,温场均匀

可接入多种工艺气源,一体化触屏操控界面,参数设置、流量监测、程序编辑集中管理,精准调节流量,气体配比重复性好。

温场均匀,气体输送稳定,沉积薄膜一致性佳,实验可复现性高。

产品展示

技术参数

产品名称 多温区滑道式CVD
型号 HL-TCVD1200-S
多温区滑道管式炉部分
炉膛模式 开启式
炉体滑动 可以通过导轨左右滑动实现物料的快冷和快热
炉膛材料 氧化铝耐火纤维
加热元件 含钼加热丝
极限温度 1200℃
工作温度 ≤1100℃
升温速率 建议:≤10℃min
加热温区 多温区(温度数量可按需求定制)
温区总长度 200~440mm(尺寸可按客户需求定制)
炉管材质 高纯石英
炉管直径 50~120mm(尺寸可按客户需求定制)
密封方式 不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈)
其中一端用方便进出物料的快接法兰,预留进气品和出气口
控制模式 多段智能PID程序控温
测温元件 N型热电偶
报警 有超温和断偶报警
供气系统
气体通道 可同时连接多种气源
质量流量计和混气罐都安装在移动箱体内
流 量 计 质量流量计
 真空系统
真空泵+数显真空计 分子泵机组及相应连接管件     
极限真空度可实现6.67*10-3pa

配置功能可选

推荐案例

  • 西北某大学 | CVD设备
    西北某大学 | CVD设备 西北某大学 | CVD设备

    更多
  • 某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场
    某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场 某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场

    更多
  • 宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用
    宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用 宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用

    更多
  • 浙江某化工企业三温区旋转管式炉
    浙江某化工企业三温区旋转管式炉 浙江某化工企业三温区旋转管式炉

    更多

定制服务流程

定制服务流程