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产品简介
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种利用辉光放电（等离子体）反应生成含有气态物质的薄膜的薄膜生长技术。该系统由高功率射频电源、真空系统、管式炉组成，配备喷淋塔、活性炭箱，满足尾气处理的需要。该设备是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。我公司根据实验要求设计了此设备，设备设计满足各类薄膜研究的需求。
性能特点
- 成品质量好
- 带尾气处理装置
- 可通保护气氛
- 安全防护功能
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
配备喷淋塔、活性炭箱，离心吹扫机等尾气处理装置，满足尾气处理的需要
法兰上带有进出气旋转接头，可以通入氮气、氩气等惰性保护气体，可在气氛环境下使用
安全防护，具有超温保护功能，当温度超过允许设定值后，自动报警保护功能，操作安全可靠
技术参数
| 产品名称 | 带尾气处理装置PECVD |
| 产品型号 | HL-T1200-PECVD |
| 炉膛结构 | 分体式，上部可打开，方便拿取炉管 |
| 炉管尺寸 | 直径Φ100mm，长1500mm （其他尺寸可根据客户需求定制） |
| 加热区长度 | 300mm（其他尺寸可根据客户需求定制） |
| 炉管材质 | 石英炉管 |
| 工作温度 | ≤1100℃ |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 加热元件 | 含钼电阻丝 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 加热速率 | 建议10℃/min，可根据实验工艺进行调节 |
| 温度测试元件 | N型热电偶 |
| 控温系统 | 采用智能化多段PID可编程控制 温度控制系统采用人工智能调节技术，具有 PID 调节、自整定功能并可编制多段升降温程序； 1、采用PID 方式调节控温，可设置多段升降温程序 2、控温精度±1ºC 3、具有过温保护 断偶保护过温或断偶时电炉加热电路自动切断 4、仪表具有温度自整定的功能 |
| 密封方式 | 真空法兰的密封方式，密封效果好 |
| 冷却方式 | 空气冷却 |
| 真空系统 | 扩散泵系统： 真空度：10 -3 Torr~10 -4 Torr。 |
| 等离子电源系统 | 功率范围 0-500W（连续可调） 工作频率 13.56MHZ+0.005% |
| 质量流量计 (液晶触摸屏) |
两台精密质量流量计： MFC 精度为：±1.5% FS |
| 废气处理装备 | 2套喷淋塔 2套活性炭箱 1台离心吹扫 |
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
