产品简介

真空RTP退火炉是一款真空度比较高的快速热处理管式炉，配有石英腔体和真空法兰，采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒，PID自动控制，30段可编程序，它是专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计。该高温退火管式炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。

性能特点

卤素灯加热升温速度快
底部滑轨设计实现快速冷却
30段高精度数字可编程

加热元件采用卤素灯加热，升温速度可达50℃/秒

炉子的底部安装有一对滑轨，可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧，以实现快速加热和快速冷却

30段高精度数字可编程温度控制器，控温精度高，可达±1℃

产品展示

技术参数

处理晶圆尺寸：2英寸		处理晶圆尺寸：4英寸		处理晶圆尺寸：6英寸
炉管外径	100MM	炉管外径	110-150MM	炉管外径	180MM
加热区尺寸	200MM	加热区尺寸	300MM	加热区尺寸	400MM

更多尺寸可根据客户需求定制

产品名称	RTP 快速退火炉
工作温度	900℃
控制器	LED(可选配LCD触屏)
炉膛	开启式滑道式
炉管尺寸	根据需求尺寸定制
加热元件	卤素灯
升温速率	≤50℃/S
热电偶	根据实际需要设计来配
温度控制器	30段高精度数字可编程温度控制器
特殊要求	具体细节可根据客户需求定制（详情欢迎来电咨询我们） 1、可定制真空系统 2、可定制气路系统 3、其他特殊工艺需求