产品简介
双炉体滑轨式管式炉配置两套独立可滑动炉体,搭载滑轨底座,炉体可快速移动至样品位置实现快速升温,加工完成后滑离样品,达成极速冷却。支持真空、惰性气氛、空气环境,适配石英炉管,工作温度可达1100℃。广泛用于 CVD 薄膜生长、二维材料制备、粉体焙烧、样品退火、材料热解等科研实验,温控精度高,操作灵活。

简介:双炉体滑轨式管式炉配置两套独立可滑动炉体,搭载滑轨底座,炉体可快速移动至样品位置实现快速升温,加工完成后滑离样品,达成极速冷却。支持真空、惰性气氛、空气环境,适配石英炉管,工作温度可达1100℃。广泛用于 CVD 薄膜生长、二维材料制备、粉体焙烧、样品退火、材料热解等科研实验,温控精度高,操作灵活。
温度范围
1100°C 1400°C 1700°C
开门方式
侧开门/上开门/下开门/底部升降式/台车式
工艺应用
烧结/钎焊/退火/回火/热处理
加热元件及温区
电阻丝/硅碳棒/硅钼棒
单温区/多温区
炉膛尺寸
标准型/非标定制型
定制服务流程
