碳化硅反应烧结炉

型号：HL-V1800

简介：碳化硅反应烧结炉是制备反应烧结碳化硅陶瓷的专用高温热处理设备，可在真空或惰性保护气氛下完成碳化硅坯体的反应烧结工艺。适用于碳化硅密封件、耐磨件、窑具、异形结构陶瓷件的样品试制与批量烧结，广泛应用于先进陶瓷企业、科研院所，用于碳化硅材料工艺研发与生产验证，稳定获取组织均匀的烧结制品。

河南鸿炉 7×24小时服务热线

18137195607获取报价

推荐产品

产品简介

碳化硅反应烧结炉是制备反应烧结碳化硅陶瓷的专用高温热处理设备，可在真空或惰性保护气氛下完成碳化硅坯体的反应烧结工艺。设备提供稳定的高温环境，促使坯体发生固相反应致密化，获得高性能碳化硅陶瓷构件。配备高精度温控系统，可自定义多段升温、保温工艺曲线，精准把控烧结温度区间，保障坯体反应均匀。炉体密封可靠，有效抑制工件高温氧化。适用于碳化硅密封件、耐磨件、窑具、异形结构陶瓷件的样品试制与批量烧结，广泛应用于先进陶瓷企业、科研院所，用于碳化硅材料工艺研发与生产验证，稳定获取组织均匀的烧结制品。

性能特点

精准控温适配烧结
气氛环境可控
烧结变形量小
成品致密度优良

温控精度高，稳定维持工艺温度窗口，保障坯体充分反应致密。

可实现真空或惰性保护气氛，抑制高温氧化，降低坯体缺陷。

反应烧结过程坯体收缩低，适合制备大尺寸、复杂异形碳化硅构件。

坯体反应充分，孔隙填充效果好，提升碳化硅陶瓷力学性能。

技术参数

型号	有效加热区尺寸宽高深(mm)	最高温度(℃)	极限真空度(pa)	温度均匀性(℃)	压升率(pa/h)	装载量 (kg)
HL-V1800-936W	6006002600	1800	5	±5	0.67	600
HL-V1800-1260W	6006003500	1800	5	±5	0.67	800
HL-V1800-1470W	7007003000	1800	5	±5	0.67	1000
HL-V1800-1960W	7007004000	1800	5	±5	0.67	1200
HL-V1800-2200W	7007004500	1800	5	±5	0.67	1500