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1200℃箱式淬火炉箱式淬火炉采用立式箱式炉结构，整机由机架、炉体、升降系统、气路系统、水路系统及电控系统组成。炉底配置喷水、喷气互换式冷却结构，可切换水冷或气冷模式，实现工件底部快速降温。适用于金属材料淬火热处理、材料导热性能测试等场景。
科研型升降/钟罩炉这款底部装料马弗炉采用紧凑型炉腔设计，带升降托盘，炉底可升降。该高温箱式升降炉是研究实验室中进行材料退火和烧结的理想设备。
1000℃真空热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难容金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料高温烧结，也可用于粉末和压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
手动开启式小型台车炉该台车炉是专为中小型工件的热处理工艺设计，具备结构紧凑、操作便捷的特点。主要用于材料烧结、热处理和材料分析与测试，如陶瓷材料烧结、磁性材料、粉末冶金材料、稀土材料、贵金属材料等的烧结，对各种金属材料进行退火、回火等热处理。
1200℃化学气相沉积CVD（单/多温区）该CVD管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
大尺寸石英管气氛管式炉（三温区）该三温区气氛管式炉拥有3个加热区，每个温区可单独控温，大尺寸石英炉管，加热区加长设计，适应需要长时间加热或复杂温度梯度的工艺（如梯度退火、分段烧结）。本款管式炉用于在多种温度段下材料的预烧、烧结、高温热解等。
气氛坩埚炉气氛坩埚炉为间歇式高温热处理设备，依靠坩埚盛放物料，持续通入氮气、氩气等保护气氛营造密闭无氧化环境。升温曲线可自由设定，适用于粉体煅烧、试样烧结、物料焙烧、小型试样热处理等工艺，主要用于新材料实验室研发、小批量试制，结构简洁，换料清理方便，是科研与小试常用的高温炉设备。
实验小型超声雾化热分解炉超声波雾化热分解炉广泛应用于纳米材料制备、电极材料包覆复合工艺等方面。
1200℃石英管式炉HL-TG1200-S1W是一款小型管式炉，适用于粉体煅烧、材料退火、陶瓷热处理等科研实验，结构简洁，便于样品观察，配备超温保护，安全可靠。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
